12月18日消息，近日，Intel宣布已安裝ASML最新的TWINSCAN EXE:5200B光刻系統，這是全球首套、也是目前最先進的第二代High-NA EUV光刻系統，將用于Intel 14A節點制程。
此前，Intel曾于2023年底接收了首套High-NA EUV機型EXE:5000，并在俄勒岡州的Fab D1X工廠完成了早期技術研發與人才儲備，而此次落地的 EXE:5200B 則在生產力與精度上實現了提升。
Intel指出，在與ASML的合作下，已成功證明了最先進的光刻設備，在提供改進的精度和生產力方面的技術可行性，為High NA EUV設備未來的大量制造奠定了基礎。
根據官方資料，EXE:5200B在標準條件下的產能可達每小時175片晶圓，但Intel計劃通過進一步的系統調整，將產出率推高至每小時200片晶圓以上。
新系統還在Intel過去一年多對High-NA EUV光刻設備的使用經驗之上，提升了套刻精度達到了0.7nm。
Intel表示，High-NA EUV光刻設備是其晶圓代工中的重要能力，結合了自身在掩模、蝕刻、解析度增強和計量等相關領域的技能，達成了當今芯片所需的更精細晶體管細節。
