半導體制造領域迎來重大進展，臺積電宣布將在臺中市投資建設一座全新工廠，專注于14A 1.4nm工藝的量產。該項目涵蓋核心晶圓廠、配套水電設施及輔助建筑，總投資額預計達490億美元，創下公司歷史投資新高。

據技術資料顯示，臺積電14A工藝于今年4月正式對外公布，其命名、技術參數及代工服務均直接對標英特爾14A工藝。作為N2 2nm節點后的關鍵技術突破，該工藝在性能與能效方面實現顯著提升：同等功耗下性能提高10%-15%，同等性能時功耗降低25%-30%，邏輯晶體管密度提升最高達23%，芯片整體密度增加最多20%。

市場定價策略顯示，14A晶圓單片報價約4.5萬美元，較N2工藝的3萬美元上漲50%。盡管價格大幅上揚，但行業分析認為，受先進制程需求驅動，該產品仍將保持供不應求態勢。此前臺積電已向客戶發出通知，自2026年1月起，5nm及以下制程（包括5nm、4nm、3nm、2nm）將連續四年調漲價格，年均漲幅控制在3%-5%區間。

生產規劃方面，新工廠預計于2028年上半年啟動14A工藝的規模化生產。該節點的推出將進一步鞏固臺積電在高端芯片制造領域的領先地位，同時為人工智能、高性能計算等前沿領域提供更強大的技術支撐。

業內人士指出，隨著全球半導體產業向更先進制程邁進，臺積電此舉不僅展現了其技術迭代能力，更反映出市場對極紫外光刻（EUV）等尖端制造工藝的持續需求。14A工藝的商業化應用，有望推動相關產業鏈進入新的發展周期。